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靶材的分類及其常見缺陷

發(fā)布日期:2017-11-29

  20世紀90年代以來靶材已蓬勃發(fā)展成為一個有經(jīng)驗化產(chǎn)業(yè),中國及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大量不同的沉積技術(shù)用來沉積生長各種薄膜,而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵,品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn),我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚,在產(chǎn)品質(zhì)量與精細標準上與國外有不少的差距,國內(nèi)也有許多大學及研究機構(gòu)對靶材積較投入了大量鉆研與開發(fā),經(jīng)過這幾年的發(fā)展,珠三角也涌現(xiàn)了一批高新科技靶材廠家,其中少數(shù)成為了三星等全部知名企業(yè)的供應商,他們在國內(nèi)占據(jù)了大部分中高等靶材市場份額。

  1靶材應用行業(yè)分類

  1.1裝飾、工模具鍍膜行業(yè)靶材鉻靶(Cr),平面鉻靶,噴涂鉻管;

  鉻硅靶90/10Wt%,50/50at%,25/75at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶);

  鈦鋁靶50/50at%,70Ti/30at%,67AL/33at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶);

  鈦鋁硅靶1:1:1at%,1:2:1at%(電弧,平面靶,旋轉(zhuǎn)管靶);

  鈦靶,鈦管靶,鋯靶;

  金靶、玫瑰金靶;

  石墨靶,鎳靶,鋁靶,不銹鋼靶等。

  1.2太陽能光伏光熱行業(yè)靶材

  氧化鋅鋁靶AZO;硅靶;鈦靶、氧化鈦靶;鋁靶;鉻靶、鎳鉻;鋅鋁、鎢、鉬靶等。

  1.3建筑汽車玻璃大面積鍍膜

  硅鋁靶、旋轉(zhuǎn)硅鋁靶;氧化鈦靶;錫靶;鉻靶;硅靶;鈦靶、不銹鋼靶。

  1.4平面顯示行業(yè)

  ITO靶;二氧化硅靶;高純硅靶4-7N;高純鉻靶3N5;TFT鉬靶;鉬鈮靶;鎢鈦靶90/10wt%;高純鋁靶等。

  1.5光學,光通信,光存儲行業(yè)

  銀靶;鉭靶;硫化鋅靶;高純鋁靶;硅靶。

  2常用靶形

  常用靶形有電弧靶、平面靶、旋轉(zhuǎn)管靶。

  2.1平面靶材利用率提高方式

  (1)改變磁鐵運動方向

  (2)改變磁力線分布寬度和高度

  2.2靶材性能與要求

  靶材質(zhì)量直接影響著薄膜的物理、外觀、力學等性能,因而對靶材質(zhì)量的評判較為嚴格,主要應滿足以下要求:雜質(zhì)及氧含量低、純度高;致密度高;成分與結(jié)構(gòu)均勻;晶粒尺寸細小。

  2.3劣質(zhì)靶材缺點

  a)為熔煉鉻靶燒蝕后靶面情況

  b)靶面有凹痕為引弧針安裝不當導致的

  c)水晶鍍膜靶材密度不夠,燒蝕后區(qū)別

  d)等離子噴涂氧化鈦旋轉(zhuǎn)管靶不良

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